Исследователи из Калифорнийского университета, Дэвис, изобрели так называемый наноклей, который помимо обычного применения в качестве клеящего средства, может быть использован в производстве многослойных трехмерных кристаллов компьютерных процессоров.
Обычные
клеящие составы формируют достаточно толстый слой между двумя
склеиваемыми поверхностями. Новый наноклей позволяет формировать
тончайший слой, толщиной всего в несколько молекул. Помимо этого,
наноклей отлично проводит тепло и может наносится с помощью печатного
метода.
Согласно
информации, опубликованной исследователями, возглавляемыми профессором
Тингруи Пэн (Tingrui Pan), основой нанокле является прозрачный
эластичный материал полиметилсилоксан (polydimethylsiloxane, PDMS).
Ранее было замечено, что когда этот материал совмещали с гладкой
поверхностью, а затем отслаивали, то на поверхности оставался тончайший
слой вязкого остатка. И именно этот остаток ученые решили использовать в
качестве наноклея. Так же исследователи добились увеличения связывающей
способности материала с помощью обработки поверхности кислородом.
Основной
областью применения нового наноклея исследователи считают скрепление
слоев полупроводникового материала при производстве многослойных чипов и
других электронных приборов. Но не исключена возможность применения
нового состава и в традиционных целях, к примеру, для закрепления
предметов на гладких вертикальных поверхностях. К сожалению, новый клей
работает исключительно на гладких поверхностях и удаляется только с
помощью термической обработки.
Наноклей, который проводит тепло и может наноситься шаблонно, формирует слой толщиной всего несколько молекул.
Исследования,
приведшие к разработке состава нового наноклея, проводились под эгидой и
финансированием американского Национального научного фонда (National
Science Foundation), а предварительная патентная информация была
опубликована в журнале Advanced Materials.
Комментариев нет:
Отправить комментарий